POM 日本旭化成 4520

专业供应日本旭化成（Tenac）POM原料

绝缘材料配方及生产工艺

低压绝缘材料 
1.1配方 
环氧树脂  E-44  100 
稀释剂    二溴苯基缩水甘油醚20                                      
阻燃剂   三氧化二锑   10 
活性硅微粉   400目    200 
固化剂   593      25 
二乙烯三胺  3 
1.2 生产工艺 
1.2.1硅微粉烘干至含水率0.2％以下 
1.2.2按以下顺序加环氧树脂、稀释剂、阻燃剂、硅微粉到反应釜 
1.2.3升温至100℃，在－0.1Mpa真空下脱气拌和料30min至均匀 
1.2.4冷却到50℃以下，加入固化剂，保持温度不超过50℃，脱气真空度－0.1Mpa，拌和时间不超过30min，即可进入浇注工序。

 
2.高压低压绝缘材料 
2.1配方 
环氧树脂  E-44  100 
稀释剂    二溴苯基缩水甘油醚20                                      
阻燃剂   三氧化二锑   10 
活性硅微粉   400目    300 
固化剂   S101      95 
促进剂  DMP-30     1.5 
2.2 生产工艺 
2.2.1硅微粉烘干至含水率0.2％以下 
2.2.2按以下顺序配成双组分 
A组分 环氧树脂、促进剂、阻燃剂、硅微粉200 
B组分  固化剂、稀释剂、硅微粉100 
2.2.3  A组分升温至80-100℃，在－0.1Mpa真空下脱气拌和料30min至均匀 
2.2.4  B组分升温至50℃，在－0.1Mpa真空下脱气拌和料30min至均匀 
2.2.5冷却到50℃以下，将A组分加入B组分，保持温度不超过50℃，脱气真空度－0.1Mpa，拌和时间30min，即可进入浇注.